eng
Выпуск #2/2025
Фирма «СИМЕКС»: новая приставка отражения с переменным углом от 20° до 80°
Просмотры: 788
10.22184/2227-572X.2025.15.2.110.112
Фирма «СИМЕКС»: новая приставка отражения с переменным углом от 20° до 80°
Научно-производственная фирма «СИМЕКС» (Новосибирск, Академгородок) специализируется на разработке и производстве инфракрасных спектральных приборов, среди которых:
Более 740 приборов фирмы работают сегодня в 150 городах России и за рубежом.
В 2025 году фирма «СИМЕКС» разработала новую модификацию приставки отражения – «ПРИЗ 20-80» (рис. 1). Эта приставка является более функциональным и удобным вариантом выпускаемой фирмой серийной и хорошо зарекомендовавшей себя приставки «ПРИЗ», предназначенной для анализа спектров зеркального и диффузного отражения. На приставке «ПРИЗ» можно также записывать спектры так называемого двойного пропускания, при котором излучение дважды проходит через слой вещества, раскатанного по зеркальной стальной подложке.
Приставка «ПРИЗ 20-80» существенно расширяет возможности анализа свойств по спектрам отражения, поскольку в ней реализован механизм изменения угла падения излучения на образец. Известно, что этот угол заметно влияет на вид и значимые особенности спектров отражения различных объектов, таких как оптические материалы и изделия из них, а также всевозможные покрытия на подложках. Угол падения излучения на образец в новой приставке можно легко установить поворотом указателя регулятора по шкале, расположенной на верхней панели приставки, не меняя положения образца. Угол падения варьируется в широких пределах: от близкого к нормальному угла 20° до скользящего 80°.
Приставка предназначена для исследования твердых образцов диаметром до 35 мм и толщиной до 20 мм; порошков и иных сыпучих объектов; компонентов растворов после высушивания; тонких слоев твердых веществ, подготовленных с помощью мини-пресса; светофильтров; различных покрытий; мономолекулярных слоев масел, жиров, липидов на поверхности воды.
Использование скользящего угла часто бывает незаменимо для анализа чрезвычайно тонкослойных покрытий. Техника работы при скользящем угле основана на методе двойного пропускания через слой покрытия, нанесенного на светоотражающую подложку, но при этом обладает специфическим преимуществом. Если при падении излучения под небольшим углом спектр пропускания покрытия может быть выражен слабо или вовсе отсутствовать, то при скользящем угле за счет геометрического увеличения толщины слоя почти в два раза возможность прописать полосы тонкого покрытия существенно возрастает.
Рис. 2 иллюстрирует описанный эффект. На нем приведены три спектра оксидной пленки толщиной около 100 нм, нанесенной на поверхность металлического зеркала. Они записаны в технике двойного пропускания на приставке «ПРИЗ 20-80» при различных углах падения излучения на образец. Видно, что характерная полоса поглощения материала пленки, почти отсутствующая при записи с углом 20° и слабо выраженная при 45°, уверенно прописывается при угле падения 80°.
Расположение образца в приставке «ПРИЗ 20-80» – нижнее, то есть падающее излучение направлено на образец сверху вниз. Такое расположение позволяет анализировать не только крупные цельные объекты, но также и сыпучие образцы в предназначенной для них чашке. Образец размещается на специальном столике диаметром 35 мм. Для точного позиционирования образца в точке фокуса излучения предназначен подъемный механизм с плавной регулировкой высоты. Механизм снабжен линейкой с нониусом, которая позволяет располагать однотипные образцы на одной и той же высоте без индивидуальной подстройки каждого отдельного образца, экономя тем самым время оператора.
Для удобства пользователей приставка «ПРИЗ 20-80» оборудована встроенным монитором, на который видеокамера выводит увеличенное изображение образца, помещенного на столик. Четкое изображение поверхности образца на мониторе соответствует ее наилучшему для записи спектра положению по высоте.
Научно-производственная фирма «СИМЕКС» (Новосибирск, Академгородок) специализируется на разработке и производстве инфракрасных спектральных приборов, среди которых:
- ИК-фурье-спектрометры ФТ‑801, ФТ‑803 и ФТ‑805;
- ИК-микроскопы серии «МИКРАН» для работы с микрообъектами от 5 мкм;
- приставки МНПВО и НПВО: с алмазом и другими кристаллами, с подогреваемым алмазом и термоконтроллером, с ультрафиолетовым облучением образца;
- приставка РЖК для экспресс-анализа жидкостей с регулировкой толщины слоя по поглощению в режиме онлайн, а также с магнитной ячейкой для количественного анализа при четырех толщинах слоя жидкости;
- приставка диффузного отражения «ПРИЗ», дополнительно реализующая один из методов ИК-микроскопии – метод двойного прохождения через образец, раскатанный по зеркальной подложке.
Более 740 приборов фирмы работают сегодня в 150 городах России и за рубежом.
В 2025 году фирма «СИМЕКС» разработала новую модификацию приставки отражения – «ПРИЗ 20-80» (рис. 1). Эта приставка является более функциональным и удобным вариантом выпускаемой фирмой серийной и хорошо зарекомендовавшей себя приставки «ПРИЗ», предназначенной для анализа спектров зеркального и диффузного отражения. На приставке «ПРИЗ» можно также записывать спектры так называемого двойного пропускания, при котором излучение дважды проходит через слой вещества, раскатанного по зеркальной стальной подложке.
Приставка «ПРИЗ 20-80» существенно расширяет возможности анализа свойств по спектрам отражения, поскольку в ней реализован механизм изменения угла падения излучения на образец. Известно, что этот угол заметно влияет на вид и значимые особенности спектров отражения различных объектов, таких как оптические материалы и изделия из них, а также всевозможные покрытия на подложках. Угол падения излучения на образец в новой приставке можно легко установить поворотом указателя регулятора по шкале, расположенной на верхней панели приставки, не меняя положения образца. Угол падения варьируется в широких пределах: от близкого к нормальному угла 20° до скользящего 80°.
Приставка предназначена для исследования твердых образцов диаметром до 35 мм и толщиной до 20 мм; порошков и иных сыпучих объектов; компонентов растворов после высушивания; тонких слоев твердых веществ, подготовленных с помощью мини-пресса; светофильтров; различных покрытий; мономолекулярных слоев масел, жиров, липидов на поверхности воды.
Использование скользящего угла часто бывает незаменимо для анализа чрезвычайно тонкослойных покрытий. Техника работы при скользящем угле основана на методе двойного пропускания через слой покрытия, нанесенного на светоотражающую подложку, но при этом обладает специфическим преимуществом. Если при падении излучения под небольшим углом спектр пропускания покрытия может быть выражен слабо или вовсе отсутствовать, то при скользящем угле за счет геометрического увеличения толщины слоя почти в два раза возможность прописать полосы тонкого покрытия существенно возрастает.
Рис. 2 иллюстрирует описанный эффект. На нем приведены три спектра оксидной пленки толщиной около 100 нм, нанесенной на поверхность металлического зеркала. Они записаны в технике двойного пропускания на приставке «ПРИЗ 20-80» при различных углах падения излучения на образец. Видно, что характерная полоса поглощения материала пленки, почти отсутствующая при записи с углом 20° и слабо выраженная при 45°, уверенно прописывается при угле падения 80°.
Расположение образца в приставке «ПРИЗ 20-80» – нижнее, то есть падающее излучение направлено на образец сверху вниз. Такое расположение позволяет анализировать не только крупные цельные объекты, но также и сыпучие образцы в предназначенной для них чашке. Образец размещается на специальном столике диаметром 35 мм. Для точного позиционирования образца в точке фокуса излучения предназначен подъемный механизм с плавной регулировкой высоты. Механизм снабжен линейкой с нониусом, которая позволяет располагать однотипные образцы на одной и той же высоте без индивидуальной подстройки каждого отдельного образца, экономя тем самым время оператора.
Для удобства пользователей приставка «ПРИЗ 20-80» оборудована встроенным монитором, на который видеокамера выводит увеличенное изображение образца, помещенного на столик. Четкое изображение поверхности образца на мониторе соответствует ее наилучшему для записи спектра положению по высоте.
Отзывы читателей
